[发明专利]在添加剂存在下使用离子液体电沉积金属的方法无效
| 申请号： | 200880101049.9 | 申请日： | 2008-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN101765681A | 公开（公告）日： | 2010-06-30 |
| 发明（设计）人： | B·库兹马诺维茨;L·J·W·M·纳博斯-威廉斯;C·J·G·范斯特林;F·W·韦尔特;J·C·斯皮尔曼 | 申请（专利权）人： | 阿克佐诺贝尔股份有限公司 |
| 主分类号： | C25D3/66 | 分类号： | C25D3/66;C25D3/02;C25F3/16 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人： | 刘金辉;唐秀玲 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及选自无定形二氧化硅、石墨粉及其混合物的添加剂在使用离子液体作为电解质在基底上电镀或电抛光金属以增加金属层厚的方法中的用途。本发明还涉及在金属基底上电镀或电抛光金属的方法，其中离子液体用作电解质，其中加至所述离子液体的金属盐或金属阳极用作金属源，其中所述离子液体包含所述添加剂。 | ||
| 搜索关键词： | 添加剂 在下 使用 离子 液体 沉积 金属 方法 | ||
【主权项】：
选自无定形二氧化硅、石墨粉及其混合物的添加剂在使用离子液体作为电解质在基底上电镀或电抛光金属以增加金属层厚的方法中的用途。
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