[发明专利]波面像差测量装置及方法、以及波面像差调整方法无效
申请号: | 200880101961.4 | 申请日: | 2008-08-13 |
公开(公告)号: | CN101772696A | 公开(公告)日: | 2010-07-07 |
发明(设计)人: | 根岸武利 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 任默闻 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明关于用以测量被检光学系统(20)的波面像差的波面像差测量装置,其具备:点光源(3a:1~3),用以供应测量光;光检测器(7),具有配置在与点光源成光学共轭位置的检测面;波面变化赋予部(5),配置在点光源与光检测器间的光路中,能对于经过被检光学系统的光赋予波面变化;及测量部(6),根据光检测器的输出、与波面变化赋予部中所赋予的波面变化,测量被检光学系统的波面像差。其并不使用干涉法,能以较简单的构成来测量被检光学系统的波面像差。 | ||
搜索关键词: | 波面像差 测量 装置 方法 以及 调整 | ||
【主权项】:
一种波面像差测量装置,用以测量被检光学系统的波面像差,其特征在于,所述波面像差测量装置包括:点光源,用以供应测量光;光检测器,具有配置在与所述点光源成光学共轭位置的检测面;波面变化赋予部,配置在所述点光源与所述光检测器间的光路中,能对于经过所述被检光学系统的光赋予波面变化;及测量部,根据所述光检测器的输出、与于所述波面变化赋予部所赋予的波面变化,测量所述被检光学系统的波面像差。
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