[发明专利]用于将材料涂抹到X射线源的阳极表面的方法和装置、阳极以及X射线源无效
| 申请号： | 200880101991.5 | 申请日： | 2008-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101779266A | 公开（公告）日： | 2010-07-14 |
| 发明（设计）人： | R·多沙伊德;G·福格特米尔;R·皮蒂格 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J35/08 | 分类号： | H01J35/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提出了一种将材料涂抹到X射线源阳极表面上的方法和装置以及相应的阳极。将用于填充X射线发射表面(115)上的凹坑(121)的诸如修复材料的阳极材料涂抹到阳极(101)的X射线发射表面上。可以使用激光束(133)检测出将要涂抹此类材料的位置。随后使用高能激光束(151)对所涂抹的包括诸如钨、铼或钼的阳极材料颗粒(41)的修复材料进行局部烧结。然后可以使用高能电子束(163)熔化经烧结的材料。使用此类方法，可以局部修复阳极的受损表面。或者，可以在X射线发射表面(115)上提供包括不同阳极材料的结构或者具有不同水平面的突出的结构，以便选择性操纵阳极(101)的X射线发射特征。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 材料 涂抹 射线 阳极 表面 方法 装置 以及 | ||
【主权项】：
一种将材料局部涂抹到X射线源的阳极(101)的表面(115)上的方法，所述方法包括：确定所述阳极中将要涂抹材料的表面区域；将材料涂抹到所确定的表面区域；通过在所确定的表面区域使用激光器(151)束进行局部照射来对所涂抹的材料进行选择性局部烧结。
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