[发明专利]含钴量低或不含钴的硬化马氏体钢、由其制造组件的方法以及由此方法获得的组件有效
| 申请号： | 200880103287.3 | 申请日： | 2008-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN101815797A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 雅克·蒙塔尼翁 | 申请（专利权）人： | 奥贝特迪瓦尔公司 |
| 主分类号： | C21D6/00 | 分类号： | C21D6/00;C21D6/02;C21D6/04;C22C38/44;C22C38/50;C22C38/52;F16D3/00;F16H3/00;B64C25/02;B64D27/00 |
| 代理公司： | 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 吴小瑛 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及钢，其特征在于含有下列以质量百分比表示的组成：C＝0.20～0.30％；Co＝痕量水平-1％；Cr＝2～5％；Al＝1～2％；Mo+W/2＝1～4％；V＝痕量水平～0.3％；Nb＝痕量水平～0.1％；B＝痕量水平～30ppm；Ni＝11～16％，其中Ni≥7+3.5Al；Si＝痕量水平～1.0％；Mn＝痕量水平～2.0％；Ca＝痕量水平～20ppm；稀土元素＝痕量水平～100ppm；如果N≤10ppm，Ti+Zr/2＝痕量水平～100ppm，其中Ti+Zr/2≤10N；如果10ppm＜N≤20ppm，Ti+Zr/2＝痕量水平～150ppm；O＝痕量水平～50ppm；N＝痕量水平～20ppm；S＝痕量水平～20ppm；Cu＝痕量水平～1％；P＝痕量水平～200ppm；其余为铁和生产过程中不可避免的杂质。本发明还涉及由所述钢制造组件的方法以及由此方法获得的组件。 | ||
| 搜索关键词： | 含钴量低 不含钴 硬化 马氏体 制造 组件 方法 以及 由此 获得 | ||
【主权项】：
钢，其特征在于含有下列以重量百分比表示的组成：-C＝0.20～0.30％-Co＝痕量水平～1％-Cr＝2～5％-Al＝1～2％-Mo+W/2＝1～4％-V＝痕量水平～0.3％-Nb＝痕量水平～0.1％-B＝痕量水平～30ppm-Ni＝11～16％，且Ni≥7+3.5Al-Si＝痕量水平～1.0％-Mn＝痕量水平～2.0％-Ca＝痕量水平～20ppm-稀土元素＝痕量水平～100ppm-如果N≤10ppm，Ti+Zr/2＝痕量水平～100ppm，其中Ti+Zr/2≤10N-如果10ppm＜N≤20ppm，Ti+Zr/2＝痕量水平～150ppm-O＝痕量水平～50ppm-N＝痕量水平～20ppm-S＝痕量水平～20ppm-Cu＝痕量水平～1％-P＝痕量水平～200ppm其余为铁和生产过程中不可避免的杂质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奥贝特迪瓦尔公司，未经奥贝特迪瓦尔公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200880103287.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
