[发明专利]用于高度准直光收集布置的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200880105514.6 申请日: 2008-06-12
公开(公告)号: CN101796617A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 维甲压库马尔·C·凡尼高泊;埃里克·A·派普 申请(专利权)人: 朗姆研究公司
主分类号: H01L21/3065 分类号: H01L21/3065
代理公司: 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 代理人: 樊英如
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供一种用于在等离子体处理室中在等离子体处理过程中进行等离子体的光询问的方法。该方法包括提供光学观察孔。该方法还包括提供准直仪布置。该准直仪布置被配置为具有多个准直仪,其中该多个准直仪的第一准直仪与该多个准直仪的第二准直仪由连接区域分开。该方法进一步包括当正在处理基板时,通过该准直仪布置收集来自该等离子体处理室中的该等离子体的光信号,产生高度准直的光信号。
搜索关键词: 用于 高度 准直光 收集 布置 方法 装置
【主权项】:
用于在等离子体处理室中在等离子体处理过程中进行等离子体的光询问的方法,包含:提供光学观察孔;提供准直仪布置,所述准直仪布置耦合于所述光学观察孔,所述准直仪布置被配置为具有多个准直仪,其中所述多个准直仪的第一准直仪与所述多个准直仪的第二准直仪由连接区域分开;以及当正在处理基板时,通过所述准直仪布置收集来自所述等离子体处理室中的所述等离子体的光信号,产生高度准直的光信号。
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