[发明专利]用于具有改进的热稳定性的合成反铁磁体结构的方法和装置有效
申请号: | 200880106907.9 | 申请日: | 2008-08-15 |
公开(公告)号: | CN101802936A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 孙吉军;R·戴夫;J·斯劳特 | 申请(专利权)人: | 艾沃思宾技术公司 |
主分类号: | H01F10/32 | 分类号: | H01F10/32;H01F41/30 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李帆 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 合成反铁磁体(SAF)结构(102)包括底部铁磁层(210)、在该底部铁磁层上形成的耦合层(206),和在该耦合层上形成的顶部铁磁层(202)。顶部铁磁层和底部铁磁层之一包含以(Co100-aFea)100-zBz表征的非晶态合金,其中a小于约10原子%,且z大于约20原子%。大体上,磁性器件包括至少一个包含以(Co100-aFea)100-zBz表征的非晶态CoFeB合金的磁性层,其中a小于约10原子%,且z大于约20原子%。 | ||
搜索关键词: | 用于 具有 改进 热稳定性 合成 磁体 结构 方法 装置 | ||
【主权项】:
合成反铁磁体(SAF)结构,其包含:底部铁磁层;在该底部铁磁层上形成的耦合层;和在该耦合层上形成的顶部铁磁层;其中顶部铁磁层和底部铁磁层中的至少一个包含以(Co100-aFea)100-zBz表征的非晶态CoFeB合金,其中a小于约10原子%,且z大于约20原子%。
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