[发明专利]用于产生具有线形射束横截面的激光射束的方法和装置有效
| 申请号： | 200880107069.7 | 申请日： | 2008-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN101801586A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | M·斯托普卡 | 申请（专利权）人： | 相干有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/073 | 分类号： | B23K26/073;G02B27/09 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 侯鸣慧 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生具有线形射束横截面的激光射束的方法和装置，该线形射束横截面具有射束横截面长轴和射束横截面短轴并且具有在该长轴中至少200mm的延伸距离和在该短轴中至多800μm的延伸距离，其中，将从激光射束源射出的激光射束关于该长轴和该短轴分开地均匀化，其方式是激光射束不仅相对于该长轴而且相对于该短轴在分别产生一个焦平面的情况下均匀化，分别有多个由激光射束的射束横截面所分成的子射束聚焦到所述焦平面中，然后使所述子射束在形成一个在射束横截面中均匀化的激光射束的情况下聚集，激光射束至少关于该长轴经历远心成像，即关于该长轴均匀化的激光射束借助于聚光光学装置(LACL)这样成像，使得产生一个可分配给被成像的激光射束的光路，该光路由平行光的相对于传播方向纵向地取向的子射束构成。本发明的特征在于下列方法步骤：使在该短轴中均匀地聚集的射束横截面借助于用于产生均匀的像场(HFSA1)的第一聚光光学装置(SACL1)成像并且使第一光圈(P1)借助于第一场透镜光学装置(SAFL1)产生，关于该短轴分成的子射束聚焦到其中的焦平面成像到该第一场透镜光学装置中，使均匀的像场(HFSA1)借助于第二聚光光学装置(SACL2)成像到第二像场(HSFA2)中以及使该第一光圈(P1)借助于第二场透镜光学装置(SAFL2)成像到第二光圈(P2)中，该第二光圈相应于用于使激光射束远心成像到一个成像平面上的成像光学装置(p-lens SA)的入射光圈，关于该长轴均匀化的激光射束借助于该聚光光学装置(LACL)成像到该成像平面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 产生 具有 线形 横截面 激光 方法 装置 | ||
【主权项】：
用于产生具有线形射束横截面的激光射束的方法，该线形射束横截面具有射束横截面长轴和射束横截面短轴并且具有在该长轴中至少200mm的延伸距离和在该短轴中至多800μm的延伸距离，在该方法中，将从激光射束源射出的激光射束关于该长轴和该短轴分开地均匀化，其方式是激光射束不仅相对于该长轴而且相对于该短轴在分别产生一个焦平面的情况下均匀化，分别有多个由激光射束的射束横截面所分成的子射束聚焦到所述焦平面中，然后使所述子射束在形成一个在射束横截面中均匀化的激光射束的情况下聚集，并且激光射束至少关于该长轴经历远心成像，即关于该长轴均匀化的激光射束借助于聚光光学装置(LACL)这样成像，使得产生一个可分配给被成像的激光射束的光路，该光路由平行光的相对于传播方向纵向地取向的子射束构成，其特征在于下列方法步骤：-使在该短轴中均匀地聚集的射束横截面借助于用于产生均匀的像场(HFSA1)的第一聚光光学装置(SACL1)成像并且使第一光圈(P1)借助于第一场透镜光学装置(SAFL1)产生，关于该短轴分成的子射束聚焦到其中的焦平面成像到该第一场透镜光学装置中，以及-使均匀的像场(HFSA1)借助于第二聚光光学装置(SACL2)成像到第二像场(HSFA2)中以及使该第一光圈(P1)借助于第二场透镜光学装置(SAFL2)成像到第二光圈(P2)中，该第二光圈相应于用于使激光射束远心成像到一个成像平面上的成像光学装置(p-lens SA)的入射光圈，关于该长轴均匀化的激光射束借助于该聚光光学装置(LACL)成像到该成像平面上。
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