[发明专利]光谱滤光片、包括这样的光谱滤光片的光刻设备、器件制造方法以及由此制造的器件无效
| 申请号： | 200880108435.0 | 申请日： | 2008-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101836263A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | M·M·J·W·范赫彭斯;V·Y·班尼恩;W·A·索尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/10 | 分类号： | G21K1/10;G21K1/06;G03F7/20;G02B5/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻光谱杂质滤光片，该光刻光谱杂质滤光片包括沿着光轴布置位于依次的位置上的第一和第二滤光片元件。第一滤光片元件具有沿第一方向布置的狭缝。第二滤光片元件具有沿横向于第一方向的第二方向布置的狭缝。光谱滤光片被配置以通过反射第一波长的辐射和允许透射第二波长的辐射来改善辐射束的光谱纯度，所述第一波长大于第二波长。 | ||
| 搜索关键词： | 光谱 滤光 包括 这样 光刻 设备 器件 制造 方法 以及 由此 | ||
【主权项】：
一种光刻光谱滤光片，所述光刻光谱滤光片包括：第一滤光片元件，所述第一滤光片元件包括具有沿第一方向布置的平面内长度尺寸的狭缝；和第二滤光片元件，所述第二滤光片元件沿着到所述第一滤光片元件的第一和第二波长的辐射的光学路径布置在依次的位置上，所述第二滤光片元件包括具有沿横向于所述第一方向的第二方向布置的平面内长度尺寸的狭缝，其中，所述光谱滤光片被配置以反射第一波长的辐射和允许透射第二波长的辐射，所述第一波长大于所述第二波长。
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