[发明专利]用于X射线断层造影合成的系统和方法有效

专利信息
申请号: 200880109124.6 申请日: 2008-09-24
公开(公告)号: CN101808582A 公开(公告)日: 2010-08-18
发明(设计)人: A·巴尼哈舍米;J·S·马尔茨 申请(专利权)人: 美国西门子医疗解决公司
主分类号: A61B6/02 分类号: A61B6/02;A61N5/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 张涛;李家麟
地址: 美国宾夕*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明针对用于X射线断层造影合成的系统和方法。X射线断层造影合成系统可以包括:a)相对于彼此被静态定位的多个x射线源(301);b)x射线检测器(303);和c)处理设备(304),其中由所述多个x射线源(301)所发射的x射线具有共同的等角点(302)。用于X射线断层造影合成的方法可以包括:a)将多个相对于彼此处于静态位置中的x射线源布置为使得所述x射线源具有共同的等角点(801);b)从多个x射线源生成x射线(802);c)对对象吸收x射线的程度进行采样(803);和d)生成对象的断层造影图像(804)。
搜索关键词: 用于 射线 断层 造影 合成 系统 方法
【主权项】:
一种用于断层造影成像的系统(300),所述系统包括:多个被静态地相对于彼此定位的x射线源(301);x射线检测器(303);以及处理设备(304),其中由所述多个x射线源(301)所发射的x射线具有共同的等角点(302)。
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