[发明专利]利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法及其用于激光辐射的装置有效
| 申请号： | 200880109954.9 | 申请日： | 2008-09-26 |
| 公开（公告）号： | CN101815963A | 公开（公告）日： | 2010-08-25 |
| 发明（设计）人： | 辛富建 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 黄威;孙丽梅 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 一种利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法，包括：浸渍步骤，其用于将待蚀刻的玻璃刻板浸入蚀刻溶液中；图案形成步骤，其用于使激光辐射到浸入蚀刻溶液中的玻璃刻板上以在玻璃刻板中形成图案；以及清洗步骤，其用于清洗已形成图案的玻璃刻板。与利用光致抗蚀剂来蚀刻的常规的刻板制造方法相比，所述方法允许制作具有显著长宽比和精细线宽的刻板，而且与仅利用激光的蚀刻方法相比，还确保了更有效的能量消耗和更高的蚀刻效率。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 激光 蚀刻 制造 玻璃 刻板 方法 及其 用于 辐射 装置 | ||
【主权项】：
一种利用激光蚀刻来制造玻璃刻板的方法，包括：浸渍步骤，其用于将待蚀刻的玻璃刻板浸入蚀刻溶液中；图案形成步骤，其用于使激光辐射到浸入蚀刻溶液中的玻璃刻板上以在玻璃刻板中形成图案；以及清洗步骤，其用于清洗已形成图案的玻璃刻板。
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