[发明专利]成膜装置和成膜方法有效
| 申请号： | 200880110929.2 | 申请日： | 2008-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN101821422A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 本田和义;神山游马;别所邦彦;柳智文;篠川泰治;佐藤俊忠 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;B22D11/00;B22D11/04;B22D11/059;B22D27/02;C01B33/02 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够以低成本进行成膜的成膜方法和成膜装置。本发明的成膜方法包括：(i)将薄膜的固体原料(51)熔融，形成熔融液，使该熔融液(51a)凝固，形成棒状体(51b)，将该棒状体(51b)拉出的工序；(ii)使棒状体(51b)的一部分熔融，向熔融液(蒸发源)(51d)供给的工序；和(iii)使用熔融液(蒸发源)(51d)形成薄膜的工序。并且，工序(i)、(ii)和(iii)在真空中进行。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种成膜方法，其用于形成薄膜，其特征在于，该成膜方法包括：将所述薄膜的原料的固体熔融，形成熔融液，使所述熔融液凝固而形成棒状体，将所述棒状体拉出的工序i；使所述棒状体的一部分熔融，向蒸发源供给的工序ii；和使用所述蒸发源形成所述薄膜的工序iii，其中，所述工序i、工序ii和工序iii在真空中进行。
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