[发明专利]透明导电膜及其制造方法有效
| 申请号： | 200880112109.7 | 申请日： | 2008-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN101821819A | 公开（公告）日： | 2010-09-01 |
| 发明（设计）人： | 久慈俊郎;千叶雅史;本城贵充;小户田小一郎 | 申请（专利权）人： | 学校法人东海大学;爱世古奈诺中部股份有限公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;C23C14/08;C23C14/34;H01B13/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 冯雅;胡烨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的透明导电膜是包含镁，选自碳、硅和硼的至少1种元素(A)，氧和氢的膜。该透明导电膜可通过例如下述方法制造：使用包含镁的靶和包含选自碳、硅和硼的至少1种元素(A)的靶，在基板上形成包含镁和该元素(A)的膜，将该膜保持于含水气氛中。 | ||
| 搜索关键词： | 透明 导电 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种透明导电膜，其特征在于，包含镁，选自碳、硅和硼的至少1种元素(A)，氧，氢。
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