[发明专利]一种等离子刻蚀残留物清洗液无效
| 申请号： | 200880113046.7 | 申请日： | 2008-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN101827926A | 公开（公告）日： | 2010-09-08 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;于昊 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/00 | 分类号： | C11D7/00;G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 中国上海市浦东新区张江*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种等离子刻蚀残留物清洗液，其含有氟化物、有机胺、溶剂和水，可用于去除金属线、通道和金属垫晶圆上的等离子刻蚀残留物，且对非金属材料如SiO2、离子增强四乙氧基硅烷二氧化硅、硅、和低介质材料等和部分金属材料如Ti、Al和Cu等有较小的腐蚀速率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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