[发明专利]ZnO系半导体元件无效

专利信息
申请号: 200880114737.9 申请日: 2008-09-05
公开(公告)号: CN101849297A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 中原健;汤地洋行;川崎雅司;大友明;塚崎敦 申请(专利权)人: 罗姆股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 岳雪兰
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种ZnO系半导体元件,其缓和自补偿效应、抑制施主杂质的混入,以容易进行p型化。使MgxZn1-xO(0≤x<1)基板的主面法线向基板晶轴的a轴c轴平面投影的投影轴向a轴方向倾斜Φa度、且向基板晶轴的m轴c轴平面投影的投影轴向m轴方向倾斜Φm度,角度Φa满足70≤{90-(180/π)arctan(tan(πΦa/180)/tan(πΦm/180))}≤110,且满足Φm≥1,由于被这样形成,所以在该主面上形成的ZnO系半导体层能够抑制施主杂质的混入、缓和自补偿效应而容易进行p型化,从而能够制作出所希望的ZnO系半导体元件。
搜索关键词: zno 半导体 元件
【主权项】:
一种ZnO系半导体元件,其中,在主面具有C面的MgxZn1-xO(0≤x<1)基板中,使所述主面的法线向基板晶轴的a轴c轴平面投影的投影轴向a轴方向倾斜Φa度、向基板晶轴的m轴c轴平面投影的投影轴向m轴方向倾斜Φm度,所述Φa满足70≤{90-(180/π)arctan(tan(πΦa/180)/tan(πΦm/180))}≤110,且满足Φm≥1,在所述主面上形成ZnO系半导体层。
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