[发明专利]光刻投影设备和补偿扰动因素的方法有效
| 申请号： | 200880114836.7 | 申请日： | 2008-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN101849210A | 公开（公告）日： | 2010-09-29 |
| 发明（设计）人： | J·B·P·范斯库特;D·J·马阿斯;A·J·J·范帝杰赛欧东克;H·范德兰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备，该光刻设备具有支撑结构(MT)、投影系统(PL)和系统(AES)，该系统被配置以补偿扰动因素。支撑结构(MT)被配置以支撑图案形成装置(MA)，图案形成装置(MA)被配置以在其横截面中将图案赋予辐射束。投影系统(PL)被配置以在衬底(W)的目标部分上曝光图案化的辐射束。所述系统被配置以通过提供将被在衬底(W)的目标部分上曝光的额外的辐射束(IL’)来补偿扰动因素。额外的辐射束(IL’)被基于图案形成装置的图案和光刻投影设备的属性数据在其横截面中赋予额外的图案。光刻投影设备的属性数据表征光刻投影设备的一个或更多的系统性扰动因素的水平和性质，例如杂散辐射轮廓曲线或源功率谱。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影设备 补偿 扰动 因素 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻投影设备，所述光刻投影设备包括：支撑结构，所述支撑结构被配置以支撑图案形成装置，所述图案形成装置被配置用于在辐射束的横截面中将图案赋予所述辐射束；衬底保持件，所述衬底保持件被配置用于保持衬底；投影系统，所述投影系统被配置以使所述图案化的辐射束曝光到所述衬底的目标部分上；和系统，所述系统被配置以通过提供将被曝光到所述衬底的目标部分上的额外的辐射束来补偿一个或更多的扰动因素，所述额外的辐射束被在其横截面中赋予基于所述图案形成装置的所述图案和光刻投影设备的属性数据的额外的图案，所述光刻投影设备的属性数据表征不同的光刻设备的一个或更多的系统性扰动因素的水平和性质。
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