[发明专利]过渡金属离子络合物、其制造方法以及聚合物的制造方法无效
申请号: | 200880116358.3 | 申请日: | 2008-09-16 |
公开(公告)号: | CN101868470A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 千田太一;花冈秀典 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C07F17/00 | 分类号: | C07F17/00;C07F5/02;C08F4/6592;C08F10/00;C08F20/00;C07F7/08;C07F7/28 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 庞立志;李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 下述通式(1)所示的过渡金属离子络合物。式中,M表示元素周期表的第4族元素,A表示元素周期表的第14族元素,D表示元素周期表的第16族元素,Cp表示具有环戊二烯基型阴离子骨架的基团,E表示平衡阴离子,R1-R6表示氢原子、卤素原子、烷基、芳基、芳烷基、被烃取代的甲硅烷基、烷氧基、芳氧基、芳烷氧基或被烃基取代的氨基,X1表示烷基、芳基、或芳烷基。 | ||
搜索关键词: | 过渡 金属 离子 络合物 制造 方法 以及 聚合物 | ||
【主权项】:
1.下述通式(1)所示的过渡金属离子络合物,[化1][式(1)中,M表示元素周期表的第4族元素,A表示元素周期表的第14族元素,D表示元素周期表的第16族元素,Cp表示具有环戊二烯基型阴离子骨架的基团,E表示平衡阴离子,R1、R2、R3、R4、R5和R6相同或不同,表示氢原子、卤素原子、碳原子数1~20的烷基、碳原子数6~20的芳基、碳原子数7~20的芳烷基、被碳原子数1~20的烃取代的甲硅烷基、碳原子数1~20的烷氧基、碳原子数6~20的芳氧基、碳原子数7~20的芳烷氧基或被碳原子数1~20的烃取代的氨基,此处,R1、R2、R3、R4、R5和R6中,烷基、芳基、芳烷基、烷氧基、芳氧基、芳烷氧基或烃可以被卤素原子取代,R1和R2可以结合形成环,R3和R4、R4和R5、R5和R6也可以分别任意结合形成环、X1表示碳原子数1~20的烷基、碳原子数6~20的芳基、或碳原子数7~20的芳烷基、此处,X1中,烷基、芳基、芳烷基可以被卤素原子取代。]
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