[发明专利]校准发光装置和方法有效
| 申请号： | 200880116852.X | 申请日： | 2008-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN101868864A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | R·P·范戈尔科姆;M·C·J·M·威森伯格 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/00 | 分类号： | H01L33/00;F21V13/10 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴立明;韩剑伟 |
| 地址： | 荷兰艾恩*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提出一种发光装置(1)，该装置包括用于发光的光源(5)和用于在随应用而定的分布中布置发射的光的校准器(40)。该光源包括：(i)能够发光的半导体器件(10)；(ii)本体(20)，具有与半导体器件(10)相邻的底表面(21)和相对顶表面(22)；以及(iii)与顶表面(22)相邻定位的反射器(30)。发光装置(1)的特征在于反射器(30)具有比本体(20)的底表面(21)更大的表面。这尤其有利于用更小校准器产生给定的光束校准，或者可选地有利于产生如下校准器，该校准器产生明显更窄的光束。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 发光 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种发光装置(1)，包括：-光源(5)，包括：-能够发光的半导体器件(10)，-本体(20)，具有与所述半导体器件(10)相邻的底表面(21)和相对顶表面(22)，以及-与所述顶表面(22)相邻定位的反射器(30)，以及-校准器(40)，用于在随应用而定的分布中布置发射的光，其特征在于：-所述反射器(30)具有比所述本体(20)的所述底表面(21)更大的表面。
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