[发明专利]监视和表示电解槽内电解过程的状态的方法和装置有效
| 申请号： | 200880118261.6 | 申请日： | 2008-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN101878458A | 公开（公告）日： | 2010-11-03 |
| 发明（设计）人： | A·兰塔拉;L·努德隆德;J·玛林恩 | 申请（专利权）人： | 奥图泰有限公司 |
| 主分类号： | G05B23/02 | 分类号： | G05B23/02;C25C3/20;G05B19/418;C25C1/00;C25C5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 朱智勇 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
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| 摘要： | 本发明涉及用于监视和表示电解槽(1)内电解过程的状态的装置和方法。这种装置的特征是它包括一个返回信道设备(8)，用来将由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的描述电解槽(1)内电解过程的状态的状态信息从数据处理设备(6)传输给被配置成与电解槽(1)连接的指示设备(9)。指示设备(9)包括用来表示由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的描述电解槽(1)内电解过程的状态的状态信息的第一表示工具(10)。指示设备(9)被配置成接收由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的状态信息，并通过第一表示工具(10)表示由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的描述电解槽(1)内电解过程的状态的所述状态信息。 | ||
| 搜索关键词： | 监视 表示 电解槽 电解 过程 状态 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用于监视和表示电解槽(1)内诸如金属电解精炼过程或金属电解沉积过程之类的电解过程的状态的装置，所述装置包括：至少一个被配置成与电解槽(1)连接的传感器(3)，用来定期重复测量电解过程的至少一个过程参数；包括数据处理工具(7)的数据处理设备(6)，用来解释传感器(3)定期重复测量的过程参数和利用传感器(3)定期重复测量的过程参数建立描述电解槽(1)内电解过程的状态的状态信息；过程参数传输系统(16)，用来将传感器(3)定期重复测量的过程参数从传感器(3)传输给数据处理设备(6)；以及被配置成与电解槽(1)连接的指示设备(9)，用来指示电解槽(1)内电解过程的状态，其特征在于：所述装置还包括返回信道设备(8)，用来将由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的描述电解槽(1)内电解过程的状态的状态信息从数据处理设备(6)传输给被配置成与电解槽(1)连接的指示设备(9)；所述指示设备(9)包括用来表示由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的描述电解槽(1)内电解过程的状态的状态信息的表示工具(10)；以及所述指示设备(9)被配置成接收由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的状态信息，并利用表示工具(10)表示由数据处理设备(6)的数据处理工具(7)建立的描述电解槽(1)内电解过程的状态的状态信息。
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