[发明专利]光致抗蚀剂组合物及多层抗蚀剂体系的多次曝光方法

摘要

一种方法及抗蚀剂组合物。抗蚀剂组合物包含：具有含有内酯结构部分的第一重复单元的聚合物、能产生碱的热碱产生剂、以及光敏酸产生剂。聚合物具有的特性为：实质可溶于第一溶剂，并且该聚合物在加热后变成实质不可溶。该方法包括：形成光致抗蚀剂薄膜，该光致抗蚀剂包含聚合物、能释出碱的热碱产生剂、光敏酸产生剂、以及溶剂。图案式成像薄膜。成像包括将薄膜曝光于辐射，导致产生酸催化剂。在水性碱中显像薄膜，导致移除可碱溶区域，并且形成图案化层。烘烤图案化层高于该温度，导致热碱产生剂在图案化层内释出碱，且导致图案化层变成不可溶于溶剂。

主权项

一种抗蚀剂组合物，其包含：一种聚合物，其包含含有内酯结构部分的第一重复单元，该聚合物具有的特性为：实质可溶于第一溶剂，并且该聚合物在加热至约140℃或更高的第一温度后变成实质不可溶于该第一溶剂；一种热碱产生剂，该热碱产生剂在加热高于第二温度时能释出碱；以及一种光敏酸产生剂，其在曝露于辐射时能释出酸。