[发明专利]对日光暴露的稳定性得到改进的层配置有效
申请号: | 200880119837.0 | 申请日: | 2008-04-22 |
公开(公告)号: | CN101883811A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | F·劳维特 | 申请(专利权)人: | 爱克发-格法特公司 |
主分类号: | C08G75/00 | 分类号: | C08G75/00;C08J3/02;C08L65/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 吴娟;林毅斌 |
地址: | 比利时*** | 国省代码: | 比利时;BE |
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摘要: | 本发明涉及组合物、在支持体上的层配置、包含上述层的发光二极管、包含上述层的光伏器件、包含上述层的晶体管和包含上述层的电致发光器件,所述组合物是不包括氢醌在内的包含至少一种包含(3,4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种含有多羟基的不包括磺基在内的芳族化合物、至少一种氨基化合物或具有至少一个环氮原子的杂环化合物、以及至少一种选自含有多羟基和/或羧基或酰胺基或内酰胺基的脂族化合物和介电常数≥15的非质子化合物的化合物,其中所述单体单元的两个烷氧基可以相同或不同或者合起来表示任选取代的氧基-亚烷基-氧基桥;所述层配置包括不包括氢醌在内的包含至少一种包含任选取代的(3,4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种含有多羟基的不包括磺基在内的芳族化合物、至少一种氨基化合物或具有至少一个环氮原子的杂环化合物、以及至少一种选自含有多羟基和/或羧基或酰胺基或内酰胺基的脂族化合物和介电常数≥15的非质子化合物的化合物,其中所述单体单元的两个烷氧基可以相同或不同或者合起来表示任选取代的氧基-亚烷基-氧基桥。 | ||
搜索关键词: | 日光 暴露 稳定性 得到 改进 配置 | ||
【主权项】:
一种组合物,所述组合物不包含氢醌而包含至少一种包含(3,4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种含有多羟基的不包括磺基在内的芳族化合物、至少一种氨基化合物或具有至少一个环氮原子的杂环化合物、以及至少一种选自含有多羟基和/或羧基或酰胺基或内酰胺基的脂族化合物和介电常数≥15的非质子化合物的化合物,其中所述单体单元的两个烷氧基可以相同或不同或者合起来表示任选取代的氧基-亚烷基-氧基桥。
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