[发明专利]对日光暴露的稳定性得到改进的层配置有效

专利信息
申请号: 200880119837.0 申请日: 2008-04-22
公开(公告)号: CN101883811A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: F·劳维特 申请(专利权)人: 爱克发-格法特公司
主分类号: C08G75/00 分类号: C08G75/00;C08J3/02;C08L65/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 吴娟;林毅斌
地址: 比利时*** 国省代码: 比利时;BE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及组合物、在支持体上的层配置、包含上述层的发光二极管、包含上述层的光伏器件、包含上述层的晶体管和包含上述层的电致发光器件,所述组合物是不包括氢醌在内的包含至少一种包含(3,4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种含有多羟基的不包括磺基在内的芳族化合物、至少一种氨基化合物或具有至少一个环氮原子的杂环化合物、以及至少一种选自含有多羟基和/或羧基或酰胺基或内酰胺基的脂族化合物和介电常数≥15的非质子化合物的化合物,其中所述单体单元的两个烷氧基可以相同或不同或者合起来表示任选取代的氧基-亚烷基-氧基桥;所述层配置包括不包括氢醌在内的包含至少一种包含任选取代的(3,4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种含有多羟基的不包括磺基在内的芳族化合物、至少一种氨基化合物或具有至少一个环氮原子的杂环化合物、以及至少一种选自含有多羟基和/或羧基或酰胺基或内酰胺基的脂族化合物和介电常数≥15的非质子化合物的化合物,其中所述单体单元的两个烷氧基可以相同或不同或者合起来表示任选取代的氧基-亚烷基-氧基桥。
搜索关键词: 日光 暴露 稳定性 得到 改进 配置
【主权项】:
一种组合物,所述组合物不包含氢醌而包含至少一种包含(3,4-二烷氧基噻吩)单体单元的聚合物、聚阴离子、至少一种含有多羟基的不包括磺基在内的芳族化合物、至少一种氨基化合物或具有至少一个环氮原子的杂环化合物、以及至少一种选自含有多羟基和/或羧基或酰胺基或内酰胺基的脂族化合物和介电常数≥15的非质子化合物的化合物,其中所述单体单元的两个烷氧基可以相同或不同或者合起来表示任选取代的氧基-亚烷基-氧基桥。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱克发-格法特公司,未经爱克发-格法特公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200880119837.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top