[发明专利]使用蚀刻耦合表面在自由空间和光波导之间的耦合

摘要

基于等离子体的蚀刻工艺用于把支持光波导的光学基底的端面具体加工成将提高在波导和自由空间光信号之间的耦合效率的成形面的外形。使用标准光刻技术图案化并蚀刻光学端面的面的能力实际上允许任何需要的面的几何结构被形成-并横过晶片的表面被复制，用于被制作的整组组件。使用适当定义的光刻用掩膜，透镜可蚀刻在端面里面，关于传播的自由空间信号和光波导的参数选择透镜的焦点。可选择地，有角度的面可沿着端面形成，所述角度足以重新指引反射/散射信号远离光轴。

主权项

一种用于在自由空间传播的光信号和结合在光学基底内的光波导之间提供光耦合的装置，耦合光通过所述光学基底的端面来提供，且所述装置包括：蚀刻的耦合面，该蚀刻的耦合面沿着所述光学基底的所述端面形成，用于将所述自由空间传播的光信号指引到所述光波导的末端部分中并且重新指引反射信号从那里远离。