[发明专利]投影机有效

专利信息
申请号: 200880121576.6 申请日: 2008-12-18
公开(公告)号: CN101903829A 公开(公告)日: 2010-12-01
发明(设计)人: 酒井谦至 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: G03B21/00 分类号: G03B21/00;G02F1/13;H04N9/31
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 陈海红;周春燕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供具有抑制发光强度降低并且防止左右的发光强度分布的相对的反转的简单的光学系统的投影机。与以往的中继光路的结构相比较,不增加透镜的块数,便能够以不使通过各光路OP1、OP2、OP3的各色光的照明光学系统30的投影像相对地反转的方式,使照明光学系统30的像在对应的液晶显示面板61g、61r、61b的位置成像。此外,通过对长度不同的第1以及第2光路OP1、OP2的相对的成像状态预先进行调整,能够使在各液晶显示面板61g、61r、61b的位置形成的照明光学系统30的像的放大倍率相等。因此,即使在例如光源的发光分布历时发生了变化的情况下,也能够减轻投影机10的投影像的白平衡的劣化、色不均等。
搜索关键词: 投影机
【主权项】:
一种投影机,具备:光源,其射出包含第1色光以及第2色光的光;照明光学系统,其将从前述光源射出的光均匀化;色分离导光光学系统,其将从前述光源射出的光分离为前述第1色光以及前述第2色光;光调制部,其具有第1光调制装置以及第2光调制装置,该第1光调制装置以及第2光调制装置由在前述色分离导光光学系统中分离的前述第1色光以及前述第2色光分别进行照明;光合成光学系统,其对通过前述第1光调制装置以及前述第2光调制装置而从多个光入射部分别入射的前述第1色光以及前述第2色光进行合成,并使前述合成后的光从光射出部射出;其中,从前述照明光学系统通过前述第1光调制装置而到达前述光合成光学系统的前述光射出部为止的、引导前述第1色光的第1光路的长度,比从前述照明光学系统通过前述第2光调制装置而到达前述光合成光学系统的前述光射出部为止的、引导前述第2色光的第2光路的长度短;前述色分离导光光学系统至少具有1个反射面;在前述第1光路中存在的反射面的数量与在前述第2光路中存在的反射面的数量之差是偶数;在将前述第1光路置换为没有前述反射面的直线状的光路的情况下,在前述第1光调制装置的位置形成前述照明光学系统的倒立像;在将前述第2光路置换为没有前述反射面的直线状的光路的情况下,在前述第2光调制装置的位置形成前述照明光学系统的倒立像。
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