[发明专利]等离子处理装置及其加热设备和等离子处理方法无效
| 申请号： | 200880123075.1 | 申请日： | 2008-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101911841A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 岸本克史;福冈裕介 | 申请（专利权）人： | 夏普株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 葛青 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种等离子处理装置，其具有相对较低的制造成本和良好的加热效率和冷却效率。阳极电极(7)在其中配备有管状加热单元(31)用于加热要被等离子处理的处理物品(包括托盘(5)和基板(6))。管状加热单元(31)包括七个管状加热器(在该实例中为埋入式加热器)(31)，其在俯视平面视图中为U形形状并且彼此平行并相邻。阳极电极(7)在其中还配备有用于冷却阳极电极(7)的管状冷却单元(32)。管状冷却单元(32)包括七个冷却管道(在该实例中为冷却氮气导管)(32)，其在俯视平面视图中为U形形状并且沿着各管状加热器(31)的外侧彼此平行并相邻，这些冷却管道可以将引入到其中的冷却气体在通过冷却管道之后排出到外部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 及其 加热 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，包括：真空腔室，等离子处理的反应在该真空腔室中进行；用于引入等离子处理反应气体到真空腔室中的气体引入部；用于从真空腔室排出该反应气体的气体排出部；和至少一对等离子处理电极，该至少一对等离子处理电极被设置为在真空腔室中彼此相对，该等离子处理装置还包括：管状加热部和管状冷却部，该管状加热部设置在电极中的一个的表面上或内部用于加热要被等离子处理的物品，该管状冷却部设置在该电极的表面上或内部用于冷却电极，其中该加热部和冷却部被布置在同一平面上。
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