[发明专利]用于动态对准束校准的系统和方法有效
申请号: | 200880124046.7 | 申请日: | 2008-12-19 |
公开(公告)号: | CN101911279A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 克里斯蒂娜·艾伦布兰切特;马特·罗德尼克 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | H01L21/68 | 分类号: | H01L21/68;H01L21/687;H01L21/66 |
代理公司: | 上海华晖信康知识产权代理事务所(普通合伙) 31244 | 代理人: | 樊英如 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 提供一种在等离子处理系统中执行DA(动态对准)束校准的方法。该方法包括获得位置差,该位置差光学成像方法取得。该光学成像方法由下列步骤组成:将该晶片设在该末端执行器上,获得该晶片在该末端执行器上的静止图像,处理该静止图像以确定该晶片的中心和由该末端执行器限定的末端执行器限定中心,和确定该该晶片的中心和由该末端执行器限定的末端执行器限定中心之间的位置差。该方法还包括通过利用机器移动补偿来补偿该晶片和该末端执行器之间的位置差将晶片相对末端执行器定心。该方法包括移动该晶片和该末端执行器通过与等离子处理模块关联的DA束。该方法还包括通过记录DA束的中断-然后-恢复样式获得基准DA束样式。随着该晶片和该末端执行器移动通过该DA束,出现该中断-然后-恢复样式。 | ||
搜索关键词: | 用于 动态 对准 校准 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种在等离子处理系统中执行DA(动态对准)束校准的方法,所述方法包括:获得位置差,所述位置差通过光学成像方法取得,所述光学成像方法包括:将晶片设在末端执行器上,取得所述晶片在所述末端执行器上的静止图像,处理所述静止图像以确定所述晶片的中心和由所述末端执行器限定的末端执行器限定中心,确定所述晶片的中心和所述由所述末端执行器限定的末端执行器限定中心之间的位置差,通过利用机器移动补偿来补偿所述晶片和所述末端执行器之间的所述位置差而将晶片相对末端执行器定心;移动所述晶片和所述末端执行器通过与等离子处理模块关联的DA束;和通过记录所述DA束的中断 然后 恢复样式获得基准DA束样式,所述中断 然后 恢复样式随着所述晶片和所述末端执行器移动通过所述DA束出现。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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