[发明专利]涂覆有无定形氢化碳的基材无效
| 申请号： | 200880124525.9 | 申请日： | 2008-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN101910456A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | R·格勒嫩;V·利伯曼;K·范黑格 | 申请（专利权）人： | 贝卡尔特股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/26 | 分类号： | C23C16/26;C23C16/27;C23C16/02;C23C16/513 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李帆 |
| 地址： | 比利时茨*** | 国省代码： | 比利时;BE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及至少部分涂覆有包含至少第一层和第二层的涂层的基材。第一层和第二层包含无定形氢化碳。第一层具有第一E04光学带隙，第二层具有第二E04光学带隙。所述第二E04光学带隙小于所述第一E04光学带隙。本发明还涉及在基材上沉积这样的涂层的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 有无 定形 氢化 基材 | ||
【主权项】：
至少部分涂覆有涂层的基材，所述涂层至少包含第一层和第二层，所述第一层和所述第二层包含无定形氢化碳；所述第一层具有第一E04光学带隙，且所述第二层具有第二E04光学带隙，所述第二E04光学带隙小于所述第一E04光学带隙。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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