[发明专利]密码参数设定装置、密钥生成装置、密码系统、程序、密码参数设定方法和密钥生成方法有效
申请号: | 200880124962.0 | 申请日: | 2008-01-18 |
公开(公告)号: | CN101911582A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 高岛克幸 | 申请(专利权)人: | 三菱电机株式会社 |
主分类号: | H04L9/08 | 分类号: | H04L9/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 金春实 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 不使用合数阶数的配对运算而实现高功能的密码系统。随机矩阵选择部142根据密码参数设定装置100所算出的多个配对对数系数ηi,从满足规定条件的多个矩阵中随机地选择随机矩阵V*。输出基底算出部143根据密码参数设定装置100所算出的多个基底因子D~j和随机矩阵选择部142所选择的随机矩阵V*,算出多个输出基底gk。 | ||
搜索关键词: | 密码 参数 设定 装置 密钥 生成 系统 程序 方法 | ||
【主权项】:
一种密码参数设定装置,其特征在于,具有:处理数据的处理装置、随机因子选择部、基底因子生成部、配对对数算出部以及参数设定部,上述随机因子选择部使用上述处理装置,从循环群G’的多个要素中选择要素来作为随机因子D*,上述基底因子生成部使用上述处理装置,根据上述随机因子选择部所选择的随机因子D*,利用多个映射Gj对上述随机因子D*进行映射,算出多个基底因子D~j,其中,上述多个映射Gj是从上述循环群G’向多个循环群G’j中的各个循环群的同态型映射,上述配对对数算出部使用上述处理装置,算出群G中的上述多个基底因子D~j间的配对值的对数来作为多个配对对数系数ηi,其中,上述群G是上述多个循环群G’j的直积,能够计算通过包含在上述群G中的两个要素间的双线性配对运算的配对值,上述参数设定部使用上述处理装置,将上述基底因子生成部所算出的多个基底因子D~j和上述配对对数算出部所算出的多个配对对数系数ηi设为用于密码运算的密码参数。
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