[发明专利]在胶体晶体阵列中成像的方法无效
| 申请号： | 200880125111.8 | 申请日： | 2008-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN101918622A | 公开（公告）日： | 2010-12-15 |
| 发明（设计）人： | S·珀迪;E·L·德克尔;C·H·芒罗;N·R·范尼尔 | 申请（专利权）人： | PPG工业俄亥俄公司 |
| 主分类号： | C30B5/00 | 分类号： | C30B5/00;G02B5/18;G07D7/00;G07D7/12 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 申发振 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开一种在胶体晶体阵列中产生图像的方法。该方法包括提供容纳于能固化的基质组合物之内的有序的粒子阵列；固化基质组合物的第一部分，其中固化的第一部分衍射第一波长的辐射；固化基质组合物的另一部分，其中固化的另一部分衍射另一波长的辐射；以及将阵列暴露于辐射以显出图像。还公开一种在胶体晶体阵列的堆组中产生多色图像的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 胶体 晶体 阵列 成像 方法 | ||
【主权项】：
一种产生图像的方法，包括以下步骤：提供包含容纳于能固化的基质组合物之内的元件阵列的成像构件；通过按图像的构形将激光辐射投射到所述成像构件的第一部分上来固化在所述第一部分内的所述基质组合物，使得固化的所述第一部分显出第一光学性质；改变所述成像构件的另一部分；以及固化所述基质组合物的其它部分，使得固化的所述其它部分显出与所述第一部分不同的光学性质。
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