[发明专利]隔离元件和用于制造隔离元件的方法无效

专利信息
申请号: 200880127057.0 申请日: 2008-12-16
公开(公告)号: CN101946199A 公开(公告)日: 2011-01-12
发明(设计)人: M·罗西;H·鲁德曼;N·斯普林;A·比特希 申请(专利权)人: 赫普塔冈有限公司
主分类号: G02B6/42 分类号: G02B6/42;H01L27/146
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李娜;李家麟
地址: 芬兰*** 国省代码: 芬兰;FI
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摘要: 用于晶片堆叠(8)的隔离晶片(1)包括具有第一表面(11)和第二表面(12)的隔离体(10),并意图夹在第一晶片(6)与第二晶片(7)之间。也就是说,隔离物(1)将靠着第一表面(11)放置的第一晶片(6)和靠着第二表面(12)放置的第二晶片(7)保持在相互之间相距恒定距离。隔离物(1)提供被布置为使得第一晶片(6)和第二晶片(7)的功能元件(9)可以与开口对准的开口(13)。隔离物(1)借助于形状复制过程由成形工具(2)形成并优选地由通过固化被硬化的材料制成。在本发明的优选实施例中,第一和第二表面(11、12)中的至少一个包括将所述表面(11、12)与开口(13)分离的边缘(15)且边缘(15)处的隔离晶片(1)的厚度超过边缘(15)周围的表面位置处的隔离晶片(1)的厚度。
搜索关键词: 隔离 元件 用于 制造 方法
【主权项】:
在一种用于通过在承载多个功能元件(9)的第一晶片(6)与承载与第一晶片(6)的功能元件(9)对准的多个功能元件(9)的第二晶片(7)之间夹入隔离晶片来产生晶片堆叠(8)并将晶片堆叠(8)分离成多个集成光学器件(21)而制造集成光学器件(21)的方法中一种制造用于晶片堆叠(8)的隔离晶片(1)的方法,隔离晶片(1)包括具有第一表面(11)和第二表面(12)的隔离体(10),隔离晶片(1)被成形为将靠着第一表面(11)放置的第一晶片(6)和靠着第二表面(12)放置的第二晶片(7)保持在相互之间相距恒定距离,隔离晶片(1)还包括多个开口(13),包括步骤●提供成形工具(2);●借助于形状复制过程,根据工具(2)的形式来形成隔离物(1)。
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