[发明专利]含有Ni的无铅焊料的Ni浓度调节方法有效
申请号: | 200880127317.4 | 申请日: | 2008-02-22 |
公开(公告)号: | CN101952081A | 公开(公告)日: | 2011-01-19 |
发明(设计)人: | 西村哲郎 | 申请(专利权)人: | 日本斯倍利亚社股份有限公司 |
主分类号: | B23K35/26 | 分类号: | B23K35/26;B23K1/08;B23K35/40;C22B9/10;C22C1/02;C22C3/00;H05K3/34 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 庞立志;高旭轶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开可以在Sn-X-Ni组成的合金中进行Ni的添加量的调节的方法。Ni的浓度调节方法,包括向熔融状态的Sn-X-Ni(X为选自Ag、Zn、Cu、Bi、Au、Ti、Ge、Ga、Si、Ce的组的1种或多种元素)中添加P,保持于250~400℃,并除去含有浮游于液相表面的P-Ni化合物及P-Sn-Ni化合物的浮渣。权利要求1所述的Ni的浓度调节方法,其中X的例子为Cu,其含量为0.3~5重量%。P在预先制为Sn-P合金的状态下添加。P的添加量以Ni的约一半的原子数量为上限。 | ||
搜索关键词: | 含有 ni 焊料 浓度 调节 方法 | ||
【主权项】:
Ni的浓度调节方法,其特征在于,向熔融状态的Sn‑X‑Ni(X为选自Ag、Zn、Cu、Bi、Au、Ti、Ge、Ga、Si、Ce的组的1种或多种元素)中添加P,保持于250~400℃,并除去浮游于液相表面的含有P‑Ni化合物及P‑Sn‑Ni化合物的浮渣。
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