[发明专利]微光刻投射曝光设备

摘要

一种微光刻投射曝光设备，包括用来照明物平面中的物场的数个物场点的照明光学部件。就该物场的每一物场点而言，该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳，其中sin(γ)为该出射光瞳的最大边缘角值(angle value)，且其中该照明光学部件包括多镜阵列(38)，其包括用来调整与该这些物场点相关的出射光瞳中强度分布的多个镜(38s)。该照明光学部件进一步包含至少一光学系统(33a；33b；33c；3d；400；822；903；1010；1103；1203)以用来时间上稳定该多镜阵列(38)的照明，使得对于每一物场点，相关出射光瞳中的强度分布偏离了相关出射光瞳中的期望强度分布，在形心角值sin(β)上就相关出射光瞳的该最大边缘角值sin(γ)而言偏离了小于2％、和/或在椭圆率上偏离了小于2％、和/或在极平衡上偏离了小于2％。

主权项

一种微光刻投射曝光设备，包括：‑照明物平面中物场的物场点的照明光学部件，其中‑‑对于所述物场的每一物场点，该照明光学部件具有与该物点相关的出射光瞳，其中sin(γ)为该出射光瞳的最大边缘角值，且其中‑‑该照明光学部件包括多镜阵列，该多镜阵列包括调整与所述物场点相关的出射光瞳中的强度分布的多个镜，‑将该物场成像在像平面中像场上的投射光学部件，其特征在于该照明光学部件包含至少一个光学系统，用来时间上稳定该多镜阵列的照明，使得对于每一物场点，相关出射光瞳中的该强度分布与相关出射光瞳中的期望强度分布偏离，‑在形心角值sin(β)上，就相关出射光瞳的最大边缘角值sin(γ)而言偏离了小于2％，和/或，‑在椭圆率上偏离了小于2％，和/或‑在极平衡上偏离了小于2％。