[发明专利][100]或[110]排列的基于半导体的大面积的柔性电子器件有效
申请号: | 200880128188.0 | 申请日: | 2008-09-09 |
公开(公告)号: | CN101981685A | 公开(公告)日: | 2011-02-23 |
发明(设计)人: | 阿米特·戈亚尔 | 申请(专利权)人: | 阿米特·戈亚尔 |
主分类号: | H01L21/762 | 分类号: | H01L21/762;H01L27/092 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 李冬梅;郑霞 |
地址: | 美国田*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 公开了新型制品和制造新型制品的方法,得到柔性的、大面积的{100}<100>织构的、基于半导体的电子器件。所得到的制品在光伏器件、平板显示器、热光伏器件、铁电器件、发光二极管器件、计算机硬盘驱动器器件、基于磁阻的器件、基于光致发光的器件、非易失性存储器器件、介电器件、热电器件和量子点激光器件的领域中有潜在的应用。 | ||
搜索关键词: | 100 110 排列 基于 半导体 大面积 柔性 电子器件 | ||
【主权项】:
一种多晶电子器件,包括:a.柔性的、多晶的金属或合金衬底,其具有[100]或[110]的宏观的、单轴的再结晶织构,具有以小于10度的半宽度(FWHM)为特征的织构的镶嵌或锐利度;b.在所述衬底上的至少一个缓冲层,所述至少一个缓冲层选自包括金属、合金、氮化物、硼化物、氧化物、氟化物、碳化物、硅化物、与锗的金属间合金或其组合的组,且其中至少顶部缓冲层具有[100]或[110]的宏观的单轴织构,具有以小于10度的半宽度(FWHM)为特征的织构的镶嵌或锐利度;c.在所述缓冲层上方的电子材料的至少一个外延层,所述电子材料的至少一个外延层选自包括但不限于基于以下的层的组:间接带隙半导体,例如Si、Ge、GaP;直接带隙半导体,例如CdTe、CuInGaSe2(CIGS)、GaAs、AlGaAs、GaInP和AlInP;多频带半导体,例如像Zn1‑yMnyOxTe1‑x的II‑O‑VI材料,以及III‑N‑V多频带半导体,例如GaNxAs1‑x‑yPy,以及其组合,所述电子材料的至少一个外延层包括所述半导体层中的用于获得所需要的n型或p型半导体性质的其他材料的微量掺杂剂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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