[发明专利]可溶性聚噻吩衍生物及其于光电组件的应用有效
申请号: | 200910001233.2 | 申请日: | 2009-01-14 |
公开(公告)号: | CN101492529B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 詹淑华;赵登志;柯宝灿;陈志平;林晋声;陈谊苓;余昭颖 | 申请(专利权)人: | 财团法人工业技术研究院 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;H01L51/05;H01L51/42;H01L51/50 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 陈红;徐金国 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: |
本发明提供一具备共平面基团的可溶性聚噻吩衍生物,此噻吩‑对苯撑基‑噻吩为主的共平面基团可增加分子内共轭程度以及帮助分子间的π‑π作用力,进而提升材料的载子迁移率。本发明还涉及此可溶性聚噻吩衍生物于有机薄膜晶体管、有机发光二极管及有机太阳能电池等光电组件上的应用。 |
||
搜索关键词: | 可溶性 噻吩 衍生物 及其 光电 组件 应用 | ||
【主权项】:
1.一种可溶性聚噻吩衍生物,具有式(I)或式(II)的结构:
其中,R为氢、烷基、羟基、卤素、氰基、亚硝酸基、胺基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的杂芳香基;Ar为取代或未取代的芳香烃基或杂芳香烃基;以及m与n为重复单元的数目,m介于2~100间,n介于0~100间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910001233.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种治疗乳腺增生和乳腺癌早期的药物
- 下一篇:一种间隙结构磁流体流动控制装置