[发明专利]可溶性聚噻吩衍生物及其于光电组件的应用有效

专利信息
申请号: 200910001233.2 申请日: 2009-01-14
公开(公告)号: CN101492529B 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 詹淑华;赵登志;柯宝灿;陈志平;林晋声;陈谊苓;余昭颖 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;H01L51/05;H01L51/42;H01L51/50
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 陈红;徐金国
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明提供一具备共平面基团的可溶性聚噻吩衍生物,此噻吩‑对苯撑基‑噻吩为主的共平面基团可增加分子内共轭程度以及帮助分子间的π‑π作用力,进而提升材料的载子迁移率。本发明还涉及此可溶性聚噻吩衍生物于有机薄膜晶体管、有机发光二极管及有机太阳能电池等光电组件上的应用。
搜索关键词: 可溶性 噻吩 衍生物 及其 光电 组件 应用
【主权项】:
1.一种可溶性聚噻吩衍生物,具有式(I)或式(II)的结构:其中,R为氢、烷基、羟基、卤素、氰基、亚硝酸基、胺基、取代或未取代的芳香基、取代或未取代的杂芳香基;Ar为取代或未取代的芳香烃基或杂芳香烃基;以及m与n为重复单元的数目,m介于2~100间,n介于0~100间。
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