[发明专利]包括至少一个再循环单独回路的旋转床吸附系统以及设计和操作这种系统的方法无效

专利信息
申请号: 200910001615.5 申请日: 2004-09-21
公开(公告)号: CN101537298A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: P·A·丁纳吉;S·C·布里克利 申请(专利权)人: 蒙特斯公司
主分类号: B01D53/06 分类号: B01D53/06
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 赵培训
地址: 美国马*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及包括至少一个再循环单独回路的旋转床吸附系统以及设计和操作这种系统的方法。采用吸附床系统降低工作流体流吸附物浓度的方法包括以下步骤。吸附剂材料的块体被旋转,使得在操作循环中给定体积的吸附剂块体在回到第一区段之前相继穿过第一、第二、第三、第四、第五以及第六区段。使工作流体在第一区段穿过吸附剂块体,并且使再生流体流在第四区段穿过吸附剂块体。使第一单独流体流在吸附剂块体的第二区段和第六区段之间的闭合回路中独立于工作流体流和再生流体流进行再循环。同时使第二单独流体流在吸附剂块体的第三区段和第五区段之间的闭合回路中独立于工作流体流、再生流体流以及第一单独流体流进行再循环。
搜索关键词: 包括 至少 一个 再循环 单独 回路 旋转 吸附 系统 以及 设计 操作 这种 方法
【主权项】:
1.一种采用吸附床系统降低工作流体流吸附物浓度的方法,所述吸附床系统包括可再生吸附剂材料的旋转块体,所述方法包括以下步骤:旋转吸附剂块体,使得在操作循环中给定体积的吸附剂块体在回到第一区段之前相继穿过第一、第二、第三、第四、第五以及第六区段;使工作流体在第一区段穿过吸附剂块体;使再生流体流在第四区段穿过吸附剂块体;使第一单独流体流在吸附剂块体的第二区段和第六区段之间的闭合回路中独立于工作流体流和再生流体流进行再循环;以及使第二单独流体流在吸附剂块体的第三区段和第五区段之间的闭合回路中独立于工作流体流、再生流体流以及第一单独流体流进行再循环。
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