[发明专利]光刻装置和器件制造方法有效
| 申请号： | 200910002111.5 | 申请日： | 2003-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN101470360A | 公开（公告）日： | 2009-07-01 |
| 发明（设计）人： | A·T·A·M·德克森;S·N·L·当德斯;C·A·胡根达姆;J·洛夫;E·R·鲁普斯特拉;J·J·S·M·梅坦斯;J·C·H·穆肯斯;T·F·森格斯;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王波波 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种光刻装置，包括：构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统；用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统；和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光，另一个基底台能够用于准备步骤；所述光刻装置被构造和布置以在基底从所述投射系统下离开时保持最终元件与水接触。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光刻装置，包括：构造用于保持基底的两个基底台；用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统；用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统；和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光，另一个基底台能够用于准备步骤；所述光刻装置被构造和布置以在基底从所述投射系统下离开时保持最终元件与水接触。
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