[发明专利]透镜阵列、曝光头及图像形成装置无效
| 申请号： | 200910002118.7 | 申请日： | 2009-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN101487905A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 小泉龙太;野村雄二郎;宗和健;井熊健 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B1/04;B41J2/447;G03G15/04;G03G15/01 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种透镜阵列，其能够应对以高析像度进行曝光且小型。该透镜阵列具备：光透射性基板(2991)，其第一方向LGD的长度为W1，并且与第一方向LGD正交或大致正交的第二方向LTD的长度为W2，并满足W1＞W2；第一透镜(LS11)，其配设于光透射性基板(2991)；第二透镜(LS21)，其在光透射性基板(2991)配设于第一透镜(LS11)的第二方向LTD侧，并且第一透镜(LS11)及第二透镜(LS11)连接。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 曝光 图像 形成 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种透镜阵列，其特征在于，具备：光透射性基板，其第一方向的长度为W1，并且与所述第一方向正交的第二方向的长度为W2，并具有W1>W2的关系；第一透镜，其配设于所述光透射性基板；第二透镜，其在所述光透射性基板配设于所述第一透镜的所述第二方向侧，并且所述第一透镜及所述第二透镜连接。
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