[发明专利]曝光头和图像形成装置无效

专利信息
申请号: 200910002526.2 申请日: 2009-01-16
公开(公告)号: CN101486277A 公开(公告)日: 2009-07-22
发明(设计)人: 小泉龙太;野村雄二郎;宗和健 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/447 分类号: B41J2/447;G03G15/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种曝光头,包括透镜阵列(299),所述透镜阵列(299)具有:透光性基板(2991),其第一方向(LGD)的长度为W1且与第一方向(LGD)正交的第二方向的长度为W2,并且具有W1>W2的关系;配置于透光性基板(2991)的第一透镜(LS11);以及在透光性基板(2991)上沿第一透镜(LS11)的第一方向(LGD)配置的第二透镜(LS12),第一透镜(LS11)与第二透镜(LS12)在第一方向(LGD)上连接。由此,能够提供向透镜入射大量光从而能够良好曝光的技术。
搜索关键词: 曝光 图像 形成 装置
【主权项】:
1、一种曝光头,包括透镜阵列和头基板,所述透镜阵列具有:透光性基板,其第一方向的长度为W1且与所述第一方向正交的第二方向的长度为W2,并且具有W1>W2的关系;配置于所述透光性基板的第一透镜;以及在所述透光性基板上沿所述第一透镜的所述第一方向配置的第二透镜,所述头基板具有:向所述第一透镜发出光的第一发光元件以及向所述第二透镜发出光的第二发光元件,所述第一透镜与所述第二透镜在所述第一方向上连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200910002526.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top