[发明专利]调色剂,显影剂,图像形成方法,图像形成装置以及处理卡盒无效
申请号: | 200910003752.2 | 申请日: | 2009-02-01 |
公开(公告)号: | CN101498903A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 杉浦英树 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G9/08 | 分类号: | G03G9/08;G03G15/00;G03G21/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王 冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明公开了一种调色剂,显影剂,图像形成方法,图像形成装置以及处理卡盒,其中所述调色剂包括至少着色剂,粘结剂树脂以及至少一种类以上的氧化物微粒子的重量平均粒径D4为2-7μm,圆形度为0.95-1.00的调色剂,其中该氧化物微粒子,至少由含硅元素的氧化物微粒子组成,调色剂附着状态时的该氧化物微粒子的个数平均粒子径Dn为,30nm-80nm,且,粒度分布的标准偏差率DL(%)为,0≤DL≤10的分布,并且,SF1为100-130,并且SF2100-125,并且SF1的标准偏差率SF1L(%),为0≤SF1L≤10的分布,并且SF2的标准偏差率SF2L(%)为,0≤SF2L≤10的分布。 | ||
搜索关键词: | 调色 显影剂 图像 形成 方法 装置 以及 处理 | ||
【主权项】:
1. 一种调色剂,包括,至少着色剂以及粘结剂树脂和至少一种以上的氧化物微粒子的,其重量平均粒径D4为2-7μm,圆形度为0.95-1.00,,其特征在于所述氧化物微粒子为至少包括含硅元素的氧化物微粒子,该氧化物微粒子的个数平均粒子径Dn为30nm-80nm,并且粒度分布的标准偏差率DL(%)为0≦DL≦10的分布(在这里DL=σ/Dn×100,σ:标准偏差),形状系数SF1为100-130,形状系数SF2为100-125,SF1的标准偏差率SF1L(%)为0≦SF1L≦10(在这里SF1L=σ/SF1×100,σ:标准偏差),SF2的标准偏差率SF2L(%)为0≦SF2L≦10(在这里SF2L=σ/SF2×100,σ标准偏差)。
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