[发明专利]掺杂硼的精制硅的制造方法无效
| 申请号： | 200910003897.2 | 申请日： | 2009-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN101508436A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 惠智裕;田渊宏 | 申请（专利权）人： | 住友化学株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/021 | 分类号： | C01B33/021;C01B33/033 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 朱 丹 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种掺杂硼的精制硅的制造方法，其是用金属铝还原卤化硅而得到还原硅，并从该还原硅、以较少的能量制造掺杂硼的硅(精制硅)的方法。本发明的制造方法的特征在于，用金属铝还原卤化硅而得到还原硅，加热熔融得到的还原硅，掺杂硼，然后在铸模内，在一个方向上设置树脂温度梯度的状态下使其凝结，由此进行精制。优选在酸洗还原硅之后加热熔融，掺杂硼。在减压下加热熔融还原硅之后，掺杂硼。在加热熔融还原硅之后使其在一个方向上凝结，精制，然后加热熔融，掺杂硼。 | ||
| 搜索关键词： | 掺杂 精制 制造 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种精制硅的制造方法，其中，具有：生成含有硅、铝及硼的混合熔融物的步骤；和在铸模内，在一个方向上设置温度梯度的状态下，使所述混合熔融物凝结的步骤。
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