[发明专利]离子注入方法及设备

摘要

本发明提供了一种离子注入方法及设备。使用离子束的束电流、到基板的剂量，以及基准扫描速度，计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数。如果扫描次数小于2，则中断处理。如果扫描次数等于或者大于2，则确定扫描次数是偶数还是奇数。如果扫描次数是偶数，则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数。如果扫描次数是奇数，则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数，并将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数。通过使用实际的扫描次数、束电流以及剂量计算基板的实际的扫描速度。

主权项

1. 一种离子注入方法，其利用带状离子束和在与离子束的主面交叉的方向上对基板的机械扫描来将离子注入基板，其中在所述离子束中，在执行或者不执行X方向的电扫描的情况下，X方向上的尺寸都大于与X方向正交的Y方向上的尺寸，所述方法包括：通过利用离子束的束电流、到基板的剂量、以及被用作用于计算基板的扫描次数的基准的基准扫描速度，来计算作为其中小数点后面的数字被截掉的整数值的基板的扫描次数；确定计算的扫描次数是否为2或更大；如果扫描次数小于2，则中断获得实际的扫描次数和实际的扫描速度的处理；如果扫描次数等于或者大于2，则确定计算的扫描次数是偶数还是奇数；如果扫描次数是偶数，则将当前的扫描次数设置为实际的扫描次数；并且，如果扫描次数是奇数，则获得比奇数扫描次数小1的偶数扫描次数，并且将获得的偶数扫描次数设置为实际的扫描次数；通过利用实际的扫描次数、束电流、以及剂量来计算基板的实际的扫描速度；以及根据实际的扫描次数和实际的扫描速度对基板执行离子注入。