[发明专利]透镜阵列、曝光头及图像形成装置无效
| 申请号： | 200910004852.7 | 申请日： | 2009-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN101491976A | 公开（公告）日： | 2009-07-29 |
| 发明（设计）人： | 小泉龙太;野村雄二郎;宗和健 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/447 | 分类号： | B41J2/447;G02B3/00;G03G15/01 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光头，包括透镜阵列(299)和发光元件基板(293)，所述透镜阵列(299)具有配置在第一方向(LGD/MD)及与第一方向(LGD/MD)正交的第二方向(LTD/SD)侧的透镜(LS)，所述发光元件基板(293)具有发出由透镜(LS)成像的光的发光元件(2951)，透镜(LS)的第一方向长度L1及透镜(LS)的第二方向长度L2具有下式的关系：1＜L1/L2。由此，提供能够在高分辨率下良好曝光且能够实现曝光头的小型化的技术。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 阵列 曝光 图像 形成 装置 | ||
【主权项】：
1、一种曝光头，包括：透镜阵列，其具有配置在第一方向及与所述第一方向正交的第二方向侧的透镜；和发光元件基板，其具有发出由所述透镜成像的光的发光元件，所述透镜的所述第一方向长度L1和所述透镜的所述第二方向长度L2具有下式的关系：1＜L1/L2。
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