[发明专利]非易失性存储器有效

专利信息
申请号: 200910005054.6 申请日: 2009-01-21
公开(公告)号: CN101783347A 公开(公告)日: 2010-07-21
发明(设计)人: 林松斌;张原祥;叶宇寰;林哲列 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L29/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 彭久云
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种非易失性存储器,包括基底、两个第一导体层、第二导体层、第一介电层、第二介电层及两个重掺杂区。基底中具有至少二隔离结构以及这些隔离结构之间的有源区。两个第一导体层分别配置于这些隔离结构上。第二导体层配置于基底上,且覆盖部分的有源区以及部分的各第一导体层。第一介电层配置于各第一导体层与第二导体层之间。第二介电层配置于有源区上的第二导体层与基底之间。两个重掺杂区分别配置于有源区上的第二导体层的两侧的基底中。
搜索关键词: 非易失性存储器
【主权项】:
一种非易失性存储器,包括:基底,该基底中具有至少二隔离结构以及所述隔离结构之间的有源区;两个第一导体层,分别配置于所述隔离结构上;第二导体层,配置于该基底上,且覆盖部分的有源区以及部分的各第一导体层;第一介电层,配置于各第一导体层与该第二导体层之间;第二介电层,配置于该有源区上的该第二导体层与该基底之间;以及两个重掺杂区,分别配置于该有源区上的该第二导体层的两侧的该基底中。
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