[发明专利]有机金属化合物、方法及使用方法无效
申请号: | 200910005991.1 | 申请日: | 2009-01-24 |
公开(公告)号: | CN101503429A | 公开(公告)日: | 2009-08-12 |
发明(设计)人: | D·M·汤普森;J·吉尔里;A·R·拉瓦;J·E·多明格斯 | 申请(专利权)人: | 普莱克斯技术有限公司 |
主分类号: | C07F17/02 | 分类号: | C07F17/02;C07F15/00;C23C16/18;H01L21/48;H01L21/285 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 刘 健;韦欣华 |
地址: | 美国康*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及有机金属化合物、方法及使用方法。本发明涉及具有式L1ML2的有机金属化合物,其中M是金属或准金属,L1是取代或未取代的阴离子6电子给体配体,并且L2是取代或未取代的阴离子6电子给体配体,其中L1和L2是相同的或不同的,制备有机金属化合物的方法,以及由有机金属化合物产生膜或涂层的方法。所述有机金属化合物可作为膜沉积的化学蒸气或原子层沉积前体而用于半导体应用中。 | ||
搜索关键词: | 有机 金属 化合物 方法 使用方法 | ||
【主权项】:
1. 具有式L1M L2的化合物,其中M是金属或准金属,L1是取代或未取代的阴离子6电子给体配体,并且L2是取代或未取代的阴离子6电子给体配体,其中L1和L2是相同或不同的;条件是(i)如果L1是取代或未取代的吡咯基或者取代或未取代的吡咯基样基团,那么L2就不是取代或未取代的环戊二烯基、取代或未取代的环戊二烯基样基团、取代或未取代的戊二烯基、取代或未取代的戊二烯基样基团、取代或未取代的吡咯基或者取代或未取代的吡咯基样基团,(ii)如果L1是取代或未取代的环戊二烯基或者取代或未取代的环戊二烯基样基团,那么L2就不是取代或未取代的戊二烯基、取代或未取代的戊二烯基样基团、取代或未取代的环戊二烯基或者取代或未取代的环戊二烯基样基团,和(iii)如果L1是取代或未取代的戊二烯基,那么L2就不是取代或未取代的戊二烯基。
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