[发明专利]成膜槽上盖与喷头的一体化构造体有效
申请号: | 200910006426.7 | 申请日: | 2004-08-06 |
公开(公告)号: | CN101509129A | 公开(公告)日: | 2009-08-19 |
发明(设计)人: | 山田贵一;增田健;梶沼雅彦;西冈浩;植松正纪;邹红罡 | 申请(专利权)人: | 爱发科股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供一种可在生产性、批量生产性上优异的成膜槽上盖与喷头的一体化构造体,具有组装在该上盖上的包括气体扩展部分的喷头构造、构成喷头的表面的喷淋板,和设于该上盖内部的温媒循环路径;该温媒循环路径配置成使其大部分与组装在该上盖内部的喷淋板的表面接触,该喷淋板的表面积与成膜槽顶部的面积为相同程度,根据成膜条件,可对喷头进行温度控制。 | ||
搜索关键词: | 成膜槽上盖 喷头 一体化 构造 | ||
【主权项】:
1. 一种成膜槽上盖与喷头的一体化构造体,其特征在于,具有组装在该上盖上的包括气体扩展部分的喷头构造、构成喷头的表面的喷淋板,和设于该上盖内部的温媒循环路径;该温媒循环路径配置成使其大部分与组装在该上盖内部的喷淋板的表面接触,该喷淋板的表面积与成膜槽顶部的面积为相同程度,根据成膜条件,可对喷头进行温度控制。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的