[发明专利]投影光学系统和图像显示装置无效
| 申请号： | 200910006863.9 | 申请日： | 2009-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN101520592A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 安部一成;藤田和弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G03B21/00 | 分类号： | G03B21/00 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 | 代理人： | 陈乃泓 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种投影光学系统，其中从一个共轭面发射的多个光束进入另一共轭面，并且形成在所述一个共轭面上的像被投影在所述另一共轭面上，其包含：包括至少一个透镜的第一光学系统；以及包括至少两个具有光焦度的反射表面的第二光学系统，所述另一共轭面从投影在所述另一共轭面上的像的中心的法线与所述第一光学系统，或所述第二光学系统的任何空间，或所述第一光学系统和所述第二光学系统之间的空间没有相交，并且当由投影在所述另一共轭面上的像的垂直方向和所述法线的延伸方向限定的平面被设置为YZ平面时，从所述第一光学系统到所述另一共轭面，光路在所述YZ平面上仅相交一次。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 光学系统 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
1. 一种投影光学系统，其中从一个共轭面发射的多个光束进入另一共轭面，并且形成在所述一个共轭面上的像被投影在所述另一共轭面上，其特征在于，包含：包括至少一个透镜的第一光学系统；以及包括至少两个具有光焦度的反射表面的第二光学系统，其中从投影在所述另一共轭面的像的中心的所述另一共轭面的法线与所述第一光学系统，或所述第二光学系统的任何空间，或所述第一光学系统和所述第二光学系统之间的空间没有相交，并且其中当由投影在所述另一共轭面上的像的垂直方向和所述法线的延伸方向限定的平面被设置为YZ平面时，从所述第一光学系统到所述另一共轭面，光路在所述YZ平面上仅相交一次。
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