[发明专利]溅射靶的制造方法、溅射靶的洗涤方法、溅射靶及溅射装置有效
| 申请号： | 200910007442.8 | 申请日： | 2009-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN101509127A | 公开（公告）日： | 2009-08-19 |
| 发明（设计）人： | 大城正晴;大场彰 | 申请（专利权）人： | 爱发科材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;B08B3/12;B08B3/02 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 陈 昕 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供可以降低突发的粒子的发生、实现膜质和薄膜制造效率提高的溅射靶制造方法。本发明的溅射靶的制造方法是磁控管溅射装置用溅射靶的制造方法，其特征在于，准备靶本体，喷射处理所述靶本体表面的非腐蚀区域，超声波洗涤所述非腐蚀区域，蚀刻或者用洗涤液喷洗所述超声波洗涤过的所述非腐蚀区域，再次超声波洗涤所述非腐蚀区域。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 制造 方法 洗涤 装置 | ||
【主权项】：
1. 一种溅射靶的制造方法，是磁控管溅射装置用溅射靶的制造方法，其特征在于，准备靶本体，喷射处理所述靶本体表面的非腐蚀区域，超声波洗涤所述非腐蚀区域，蚀刻或者用洗涤液喷洗所述超声波洗涤过的所述非腐蚀区域，再次超声波洗涤所述非腐蚀区域。
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