[发明专利]III族氮化物发光器件及制造III族氮化物基半导体发光器件的方法有效
申请号: | 200910007584.4 | 申请日: | 2009-02-23 |
公开(公告)号: | CN101515700A | 公开(公告)日: | 2009-08-26 |
发明(设计)人: | 秋田胜史;笠井仁;京野孝史;元木健作 | 申请(专利权)人: | 住友电气工业株式会社 |
主分类号: | H01S5/00 | 分类号: | H01S5/00;H01S5/343;H01L33/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 孙志湧;穆德骏 |
地址: | 日本大阪*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供III族氮化物发光器件及制造III族氮化物基半导体发光器件的方法。在氮化镓基半导体区域的基面上生长具有量子阱结构的有源层。该量子阱结构以具有410nm以上的发射峰值波长的方式形成。阱层的厚度为4nm以上10nm以下。该阱层由InXGa1-XN(0.15≤X<1,其中X为应变组分)组成。所述氮化镓基半导体区域的基面关于六方晶系III族氮化物的{0001}面或{000-1}面以15度以上85度以下的范围内的倾斜角倾斜。该范围中的基面是半极性面。 | ||
搜索关键词: | iii 氮化物 发光 器件 制造 半导体 方法 | ||
【主权项】:
1.一种III族氮化物发光器件,包括:III族氮化物衬底;在所述III族氮化物衬底上生长的氮化镓基半导体区域;以及生长在所述氮化镓基半导体区域的基面上的发射峰值波长为410nm以上的有源层,其中,所述有源层包括以交替的方式布置阱层和势垒层的量子阱结构,所述阱层的厚度为4nm以上10nm以下,所述阱层由InXGa1-XN组成,其中0.15≤X<1,X是应变组分,所述势垒层由InYGa1-YN组成,其中0≤Y≤0.05,Y<X,Y是应变组分,以及,所述基面是相对于{0001}面或{000-1}面以15度以上85度以下的范围内的倾斜角倾斜的半极性面。
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