[发明专利]X线分析装置及X线分析方法有效

专利信息
申请号: 200910008070.0 申请日: 2009-02-20
公开(公告)号: CN101539534A 公开(公告)日: 2009-09-23
发明(设计)人: 的场吉毅 申请(专利权)人: 精工电子纳米科技有限公司
主分类号: G01N23/223 分类号: G01N23/223
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 何欣亭;王丹昕
地址: 日本千叶*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供使测定者能够判断具有凹凸的试料中不能分析的区域的X线分析装置及X线分析方法。具备:对试料(S)上的任意照射点(P)照射放射线的X射线管(11);检测从试料(S)释放出的特性X线及散射X线并输出包含该特性X线及散射X线的能量信息的信号的X线检测器(12);对试料(S)出射照明光进行照明的狭域照明机构(13A)及广域照明机构(13B);以及取得照明光照明的试料(S)的照明图像作为图像数据的狭域观察机构(14A)及广域观察机构(14B)。该观察机构具有在与连接检测时的照射点(P)和X线检测器(12)的方向相同的方向上设定为使照明时的照明光的光轴朝向照射点(P)的狭域倾斜照明部(19)及广域倾斜照明部(21)。
搜索关键词: 分析 装置 方法
【主权项】:
1.一种X线分析装置,其特征在于具有:对试料上的任意照射点照射放射线的放射线源;检测从所述试料释放出的特性X线及散射X线并输出包含该特性X线及散射X线的能量信息的信号的X线检测器;对所述试料出射照明光进行照明的照明机构;以及取得所述照明光照明的所述试料的照明图像作为图像数据的观察机构,所述照明机构具有凹凸用照明部,该凹凸用照明部在与连接所述检测时的所述照射点和所述X线检测器的方向相同的方向上设定为使所述照明时的所述照明光的光轴朝向所述照射点。
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