[发明专利]曝光装置、曝光方法及组件制造方法无效
| 申请号： | 200910008214.2 | 申请日： | 2005-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN101487981A | 公开（公告）日： | 2009-07-22 |
| 发明（设计）人： | 长坂博之 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 许海兰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供一种曝光装置(EX)，以液体(LQ)充满投影光学系统(PL)像面侧之光路空间，透过投影光学系统(PL)与液体(LQ)使基板(P)曝光。曝光装置(EX)具备用以测量液体(LQ)之光学特性的测量装置(30)。可根据测量结果以液体混合装置(19)来调整液体之光学特性。能将液浸曝光时之曝光精度维持于所希望状态。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 组件 制造 | ||
【主权项】：
1、一种曝光装置，透过液体使基板曝光，其特征在于，具备：投影光学系统；液体供应机构，对所述投影光学系统的像面侧供应液体；混合装置，设于所述液体供应机构，用以混合多种类的液体；测量装置，测量以所述混合装置混合后的液体；以及控制装置，根据所述测量装置的测量结果，来调整所述混合装置中多种液体的混合比；所述液体供应机构供应以所述混合装置混合后的液体。
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