[发明专利]增透膜、光学部件、交换透镜单元和成像装置无效
| 申请号： | 200910009443.6 | 申请日： | 2009-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN101520520A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 山田和广;中山宽之;铃木峰太 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02;B32B9/00 |
| 代理公司： | 北京戈程知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程 伟;王锦阳 |
| 地址： | 日本东京都新*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及增透膜、光学部件、交换透镜单元和成像装置。本发明涉及一种包含在基材上按顺序形成的第1至第7层的增透膜，所述第1层为氧化铝基层，所述第7层为多孔二氧化硅基层，且第1至第7层的每一层在400-700纳米的波长范围内具有预定的折射率和光学厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 增透膜 光学 部件 交换 透镜 单元 成像 装置 | ||
【主权项】：
1、一种包含在基材上按顺序形成的第1至第7层的增透膜，所述第1层为氧化铝基层，所述第7层为多孔二氧化硅基层，且在400-700纳米的波长范围内，所述基材具有1. 45-1.72的折射率，所述第1层具有25.0-250.0纳米的光学厚度，所述第2层具有1. 95-2.23的折射率和27.5-52.5纳米的光学厚度，所述第3层具有1. 33-1.50的折射率和37.5-54.0纳米的光学厚度，所述第4层具有2. 04-2.24的折射率和45.0-62.5纳米的光学厚度，所述第5层具有1. 33-1.50的折射率和77.5-102.5纳米的光学厚度，所述第6层具有1. 85-2.40的折射率和16.0-26.5纳米的光学厚度，且所述第7层具有112.5-162.5纳米的光学厚度。
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