[发明专利]一种用于圆形薄片状物体进行化学液喷洒处理的装置有效
| 申请号： | 200910013493.1 | 申请日： | 2009-08-27 |
| 公开（公告）号： | CN101992165A | 公开（公告）日： | 2011-03-30 |
| 发明（设计）人： | 陈波;陈焱;谷德君;王永斌 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备有限公司 |
| 主分类号： | B05B13/02 | 分类号： | B05B13/02;B05B15/00;B05B15/04;H01L21/00 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 张志伟 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明涉及化学液喷洒处理领域，具体是一种用于硅片和其它圆形薄片状物体进行化学液喷洒处理的装置，通过处理半导体材质的圆片，从而进一步制备微电子器件。该装置设有处理腔、旋转与升降机构和盖板，处理腔具有径向设置的外层侧壁和内层侧壁，外层侧壁和内层侧壁形成双层中空结构，内层侧壁是由两层或两层以上收集圈堆积组成，收集圈均为中心开孔的凹形结构，收集圈底部开有排液口，相邻两层收集圈之间开有排气缝，在旋转与升降机构上放置圆形薄片状物体，盖板采用可移动式结构。本发明可以有效的防止酸雾和颗粒污染等问题，在喷洒不同的化学液时，旋转盘升降至相应不同的收集圈，不同的化学液分开收集，避免交叉污染。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 圆形 薄片 物体 进行 化学 喷洒 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种用于圆形薄片状物体进行化学液喷洒处理的装置，其特征在于，该装置设有处理腔、旋转与升降机构和盖板，处理腔具有径向设置的外层侧壁和内层侧壁，外层侧壁和内层侧壁形成双层中空结构，内层侧壁是由两层或两层以上收集圈堆积组成，收集圈均为中心开孔的凹形结构，收集圈底部开有排液口，相邻两层收集圈之间开有排气缝，在旋转与升降机构上放置圆形薄片状物体，盖板置于处理腔顶部，采用可移动式结构。
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